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產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-S2DQX等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗
產(chǎn)品簡介
等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗鄭州科探屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
一、產(chǎn)品應(yīng)用原理：
（1）等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
（2）該清洗機內(nèi)置不高純石英倉體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗樣品清洗和教學。
（3）KT-S2DQX型等離子清洗機電源屬于150W13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
二、作用過程：
（1）該低溫表面等離子清洗 射頻清洗機 光刻膠清洗內(nèi)置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。
（2）真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗樣品清洗和教學。
| 供電電源 | AC220V（AC110V可選) |
| 工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
| 射頻電源功率 | 150W |
| 射頻頻率 | 13.56MHz |
| 頻率偏移量 | ＜0.2MHz |
| 特性阻抗 | 50歐姆，手動匹配 |
| 耦合方式 | 感應(yīng)耦合式（線圈耦合） |
| 真空度 | ≤100Pa |
| 腔體材質(zhì) | 高純石英 |
| 腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) |
| 觀察窗內(nèi)徑 | Φ70 |
| 氣體流量 | 10—600ml/min（其他量程可選） |
| 過程控制 | 過程手動控制 |
| 清洗時間 | 手動開關(guān) |
| 開蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開式法蘭 |
| 外形尺寸 | 400x380x360mm |
| 重量 | 23Kg |
| 真空室溫度 | 小于65°C |
| 冷卻方式 | 強制風冷 |
| 標配 | KF16波紋管1米，kf16卡箍2個，電源線一根，說明書一本。 |
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